第1153章 关键绩效方案调整
⚡ 自动翻页
开启后阅读到底自动进入下一章
⚡ 开启自动翻页更爽
看到章尾自动进入下一章，追书不用一直点。
  陈默一边听，一边快速在笔记本电脑上记录要点。
  这些进展，不仅远超他之前的预期，更关键的是，它们开始触及未来晶片设计的核心挑战：
  ai驱动、不確定性建模、系统级集成。
  华兴eda，正从解决“有无问题”，迈向定义“行业標准”的阶段。
  “非常好！”陈默不吝讚扬：
  “你们用成绩证明，我们当初选择全自研、强攻ai、深耕底层模型的战略是完全正確的。
  这94%的覆盖率，含金量十足！
  那么，剩下的6%呢？
  我知道，最后的往往是最难的。”
  三位部长表情变得凝重。
  李维明代表发言：
  “剩下的，主要是两个『无人区』。一是euv光刻的逆演算法，这需要光刻机內部的光学模型和工艺数据，我们被完全隔离在外。
  二是量子晶片eda工具的预先研究，这属於前沿探索，投入巨大且短期看不到商业回报。”
  陈默沉吟片刻，说道：
  “euv部分，联合国內光刻机研发单位，成立联合攻关小组，经费我来批。