第35章 能看到光吗？
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  这话一出，魏天华直接呆愣在原地。
  13.5纳米正是euv光刻机的核心参数，可严正行说不需要反射镜组？
  要知道现在的euv光刻机为了规避镜片吸收问题，光是高精度反射镜就用了11片。
  每一片的製造难度都堪比艺术品，全球能生產的厂家不超过三家。
  陈进一的眼睛里写满难以置信。
  他也曾接触过顶尖光刻机研发，太清楚这个技术方向的顛覆性。
  如果真能实现，等於绕开了euv最卡脖子的供应链环节。
  “这怎么可能？就算波长达標，能量密度、稳定性、持续工作时长……这些都是拦路虎啊！”
  “我们试过用雷射倍频技术逼近这个区间，结果设备开机半小时就因为过热报废了。”
  望著对方难以置信的样子，严正行依旧是老样子：
  “我可以保证，这种全新光源的转化效率將超过30%！
  “30%？！”
  陈进一猛地站起身，结果膝盖一不小心撞到桌上，疼得他齜牙咧嘴，但还是咬著牙道：
  “这不可能！光源转化效率每提升1%都是天堑，您说的是理论值还是？”
  要知道现在asml的euv光源转化效率还不到5%。