第347章 半导体产业会议

  前几年海湾科技搞出来hduv-400型号光刻机的时候，也引起了一片舆论的狂欢，不少业内人士也积极参与讨论。

  当时也有相关的探讨，那就是：

  海湾科技的光刻机，什么时候才能够追上asml的水准。

  毕竟当时的hduv-400光刻机，其性能也就大概和nxt-1950相当。

  而nxt1950出现的时候，那已经是2008年的事了，而该款光刻机也是推动半导体的芯片工艺从以往的六十五纳米，下探到32/28纳米工艺的核心设备。

  或者说，正是因为有了这款光刻机，才让32/28工艺具备了大规模量产的可行性。

  海湾科技可是了好多年才弄出来了核心性能相当，但是生产效率还差一些的hduv-400型光刻机……但是，这款光刻机历史意义重大，因为该款光刻机的出现，意味着海湾科技突破了一系列duv浸润式光刻机的关键技术。

  当时，人们所畅想的是，海湾科技继续努力，争取三年一个台阶，在解决28纳米工艺之后，三年内解决可以进行双重曝光，能够把工艺下探到10-22纳米工艺的光刻机。

  至于更进一步，甚至能够进行四重曝光的光刻机，乐观估计，五年内能够解决就是巨大的胜利。

  但是让人没有想到的是，海湾科技在突破了duv浸润式光刻机的关键技术后，在小型号的快速迭代上进展迅速，几乎一年一个台阶。

  去年推出hduv-500型光刻机，把套刻精度做到了三点五纳米，实现了双重曝光的基本需求，可以用来做十四纳米工艺的芯片，一开始的性能上基本和nxt1965相当，但是不太成熟。

  后来海湾科技推出了升级型号hduv-500a，虽然工作台产能一样，不过性能更好，更稳定，这款光刻机的性能除了产能低一些，其他性能指标基本上和nxt1970持平。

  而智云微电子以及隔壁的中芯，还有国内其他一些芯片厂商大规模采购的海湾科技的先进光刻机，其实都不是hduv-500型号，而是hduv-500a型。

  去年搞出来500型号就已经够夸张的了，结果海湾科技愣是在今年六月份的时候，就交付了更新一代的hduv-600型，把套刻精度直接拉到了二点五纳米的水准。

  这一型号的核心性能水准，已经和nxt1980相当了……虽然还是有着老毛病，因为工作台不太行，所以生产效率低，后续的维护也会比较麻烦，但是还是太吓人了。