第352章 130纳米製程情况
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  “之后，通过这台光刻机进行了新製程工艺的开发，只是良品率……”
  马宇腾的目光落在报告的最后一页，那里有一张醒目的良率统计图。
  那条代表著良率的曲线，在经歷了初期的几次小幅爬升后，就死死地停在了一个数字上，再也无法寸进。
  百分之三十。
  一个根本不具备任何商业量產价值的数字。
  马宇腾抬起头，看著肖光楠，眼神平静，却仿佛能穿透人心。
  “原因是什么？”
  肖光楠的嘴唇动了动，镜片后的双眼流露出一丝技术人员面对难题时的凝重与无奈。
  他走到白板前，调出了一张更为复杂的工艺流程图。
  “问题是系统性的。”
  他指著图上一个被红框標记出来的区域。
  “这是在进行柵极刻蚀的环节。我们的180纳米用的是成熟的干法刻蚀。”
  “但到了130纳米，线宽急剧缩小，等离子体对光刻胶的损伤变得非常严重，导致刻蚀后的柵极侧壁形貌控制不住，出现大量的『脚丫』缺陷。”
  他又切换到另一张电子显微镜下的扫描图片，图片上，本该是笔直的线条，底部却出现了不规则的凸起，如同人的脚丫。
  “我们尝试了调整刻蚀气体的配比，优化等离子体的功率，甚至更换了光刻胶的供应商，但效果都不理想。”