第349章 追光四期的工艺验证计划

  林薇站在长桌前，面前摊著追光四期的工艺验证计划草案，足足两百多页，每一页都贴满了標籤和批註。梁志远坐在她右侧，手里拿著一台终端，上面显示著追光三期量產线的实时数据。张京京从合城赶来，坐在左侧，面前是一叠追光產线工艺改良的最新报告。章宸也到了，坐在稍远的位置，翻看著追光四期与天权晶片工艺的接口文档。

  追光三期的主腔体材料实验在六周前给出了两条可行路径——梯度过渡层优先上量產，涂层改性並行研发。六千万的產线工艺改良投入已经执行了四周，旋转阴极、等离子清洗、洁净度升级三条线同步推进，良率从百分之九十一拉到了百分之九十三点五，距离百分之九十五的目標还差一点五个百分点。这些成绩让团队对追光技术路线有了信心，但林薇知道，追光三期只是解决了“能不能做出来”的问题。追光四期要解决的是“能不能做得更好、更快、更便宜”的问题。

  会议开始前，林薇先让梁志远匯报了追光三期的量產数据。

  “追光三期量產线，过去四周的累计数据——总投片一万两千片，良品率百分之九十三点五，比四周前提升了二点五个百分点。旋转阴极的均匀性从正负百分之五优化到正负百分之三，等离子清洗的颗粒去除率从百分之九十五提升到百分之九十八，洁净度从千级提升到百级。三条线的改良都达到了预期目標。”

  “但有一个问题——梯度过渡层的工艺窗口太窄。温度、气压、功率三个参数的允许波动范围只有正负百分之一，超出这个范围，过渡层的结合力就会下降。產线上的操作工需要非常精细的控制，稍有疏忽就会造成批量报废。我们正在开发自动反馈控制系统，把参数波动范围放宽到正负百分之三。”

  林薇在笔记本上记下了“自动反馈控制”这几个字。

  张京京补充道:“涂层改性的並行研发也有进展。郑教授的团队在实验室里做出了一种新型梯度涂层，结合力比现有方案高百分之三十，热膨胀係数和基体更匹配。但这个方案需要在追光四期上验证，追光三期的腔体结构不支持。”

  林薇点了点头，翻到追光四期工艺验证计划的第一页。

  “追光四期的定位——不是追光三期的简单升级，而是下一代镀膜平台。设计目標是——镀膜均匀性正负百分之一以內，界面结合力提升百分之五十，工艺窗口放宽到正负百分之三，单片成本降低百分之三十。同时，支持更大尺寸的基板，从目前的八英寸扩展到十二英寸。”

  “验证计划分为三个阶段。第一阶段，核心模块验证，周期八周。第二阶段，整机集成验证，周期十二周。第三阶段，量產爬坡验证，周期十六周。总计三十六周，大约九个月。”

  梁志远站起来，走到投影幕前，调出了追光四期的系统架构图。

  “追光四期的核心改进有四点。第一，腔体结构重新设计。追光三期的腔体是单室结构，镀膜和基板传输在同一个腔室，相互干扰。追光四期採用多室结构——进样室、镀膜室、出样室分开，基板通过真空传输轨道移动。这样可以避免交叉污染，同时提高產能。”

  “第二，镀膜源升级。从平面阴极升级为旋转阴极阵列，四个阴极可以独立控制功率和气体流量。镀膜均匀性从正负百分之三提升到正负百分之一以內。”

  “第三，在线检测系统。在镀膜室內集成椭圆偏振仪和反射高能电子衍射仪，实时监测膜厚和晶体结构。发现异常可以在零点五秒內调整工艺参数，避免批量报废。”

  “第四，自动化控制系统。用天权5晶片作为核心控制器，配合小芯的ai模型，实现全自动工艺优化。操作工只需要输入目標膜厚和材料，系统会自动计算最优工艺参数並执行。”