第208章 小芯AI检测曝光流程漏洞

  euv曝光区四號机台的操作员报告：“第二批次监控片曝光完成，正在传送至量测站进行线宽检测。”

  按照流程，曝光后的晶圆会在十分钟內完成关键尺寸的在线测量，数据实时反馈到控制系统。如果线宽偏差超出规格，系统会自动调整后续曝光参数。

  “量测站接收晶圆，开始扫描。”监控屏上显示进度条。

  三点四十一分，量测完成。数据上传至製造执行系统。

  几乎在同一时刻，“小芯”ai平台的声音再次响起：

  “检测到异常模式。在euv曝光流程中，发现周期性的线宽偏差分布异常，周期约为8.7秒，偏差幅度在纳米级別，但具有统计显著性。”

  大屏上自动调出了量测数据的热力图。上百个测量点的线宽数值以顏色编码显示，正常情况下应该呈现均匀分布，但现在出现了微弱的条纹状模式。

  “8.7秒周期……”张京京皱眉，“这个时间常数对应什么设备参数？”

  梁志远快速查阅设备手册：“euv光源的脉衝重复频率是5千赫兹，8.7秒对应约43500个脉衝周期。光刻机工作檯的扫描速度是每秒150毫米，8.7秒对应1.3米扫描距离，这刚好是单次曝光场的对角线长度。”

  “也就是说，异常模式以曝光场为单位重复出现。”张京京明白了，“小芯，分析这种异常的可能原因。”

  ai平台开始运行深度分析算法。屏幕上，数据流被分解成数十个维度：光源功率稳定性、照明均匀性、投影镜头畸变、工作檯定位精度、掩膜版形变、光刻胶灵敏度分布……

  “排除光源因素。”小芯的声音平静而清晰，“过去一小时『追光二期』的功率稳定度维持在98.1%至98.3%，波动幅度不足以產生检测到的线宽偏差。”

  “排除工作檯和掩膜版因素。”屏幕上相应的数据被標灰，“定位精度和形变监测数据均在规格范围內。”

  “聚焦於投影镜头系统。”ai继续分析，“虽然镜头更换后已完成校准，但在特定扫描角度下，可能存在残余像差未被完全补偿。建议进行全视场像差映射测试以验证。”

  张京京刚要下达测试指令，梁志远突然指著另一个监控屏：“等等，四號机台的冷却水温度曲线有异常波动。”