第206章 芯谷厂房突发静电事故
  在理想的三相平衡系统中，零线电流应该接近於零。但此刻，监控显示零线电流达到了相线电流的8%，並且以每秒约0.2%的速度缓慢上升。
  “电力组，立即检查全厂接地系统！”梁志远的命令还没说完，第二件事发生了。
  监控屏幕上，代表14nm量產线关键区域的粒子计数器，突然从绿色跳成了黄色，然后迅速转红。
  “警报！光刻区粒子计数超標！0.1微米以上颗粒物浓度达到每立方米50个！已超过工艺標准500倍！”
  几乎在同一时间，多个区域的报警蜂鸣器同时响起：
  “离子注入区三號机台真空度异常下降！”
  “化学机械拋光区研磨液流量波动！”
  “薄膜沉积区温控系统振盪！”
  梁志远从椅子上弹起来，衝到总控台前。屏幕上，几十个报警图標像被点燃的鞭炮一样接连炸开。但最让他心惊的，是euv曝光区的监控画面，
  在高速摄像机的捕捉下，可以看到三號euv光刻机的投影镜头下方，几片肉眼几乎看不见的微尘，正违反物理规律般悬浮在空中，然后缓缓飘向镜头表面！
  静电。这是静电吸附现象。
  “全厂静电监测！”梁志远吼道。
  监控画面切换到静电电压分布图。在正常的半导体工厂，由於严格的防静电措施，任何区域的静电电压都应该控制在100伏以下。但此刻，分布图上出现了三个醒目的红色热点，
  一个是euv曝光区，静电电压达到3200伏；
  一个是晶圆传送走廊，静电电压2800伏；