第197章 涌向CK的暗流
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  第197章 涌向ck的暗流
  荷蓝，埃因霍温，阿斯唛（asm）研发实验室。
  空气中弥漫着一种近乎凝固的兴奋，混合着精密仪器的特殊冷却液气味和咖啡的浓郁香气。
  巨大的洁净室内，一台庞大而复杂的机器，人类历史上第一台极紫外（euv）光刻机原型机，正静静地矗立在中央，仿佛一头蛰伏的金属巨兽。
  虽然它此刻的晶圆良品率低得可怜，仅有30%，光源输出功率也忽高忽低，稳定性堪忧，远未达到商用标准，但这并不妨碍围绕它的研发人员们脸上洋溢着巨大的成就感和狂喜。
  突破了！
  他们真的突破了物理的极限，为摩尔定律的延续凿开了一道新的曙光！
  与已经十分成熟、但已逼近物理极限的深紫外（duv）光刻机相比，这台euv是通向7nm乃至更先进制程的全新道路。
  实验室的门滑开，阿斯唛总裁皮特·温尼克面带笑容地走了进来，立刻被热烈的掌声和欢呼包围。
  他热情地与每一位核心工程师握手，声音洪亮而充满感染力。
  “女士们，先生们！
  今天，你们创造了历史！
  这台机器，不仅仅是一台光刻机，它是人类智慧对抗物理法则的又一次伟大胜利！
  它证明了我们阿斯唛走在正确的道路上，证明了全球协作的力量！
  euv的时代，将由我们一同开启！”